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產(chǎn)品詳細頁(yè)簡(jiǎn)要描述:真空氣氛燒結爐廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結的生產(chǎn)及實(shí)驗。
- 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
- 更新時(shí)間:2024-07-07
- 訪(fǎng) 問(wèn) 量:1062
產(chǎn)品介紹
品牌 | 中奧菲達 | 升溫速度(達到最高溫) | 40/min |
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內部尺寸 | 300x200x200mm | 加熱方式 | 硅碳棒 |
最大功率 | 4000kW | 控溫精度 | 1℃ |
最高溫度 | 1300℃ | 價(jià)格區間 | 1萬(wàn)-2萬(wàn) |
儀器種類(lèi) | 箱式爐 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合 |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
真空氣氛爐又名無(wú)氧退火爐、真空氣氛燒結爐等 物體在通入定氣體的爐膛內進(jìn)行燒結的方法。 不同的材料選擇適宜的氣氛燒結,有助于燒結過(guò)程,提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體(如氬)等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結,透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結,氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結。 有時(shí)為保護燒結調協(xié)也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫,鎢絲爐宜在真空條件下工作。
氣氛爐用途:
真空氣氛爐滿(mǎn)足于不同工藝實(shí)驗而殊制造,適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗和生產(chǎn)設備。
真空氣氛燒結爐原理:
真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結合的新型熱處理技術(shù),真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空,真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的,真空熱處理可以實(shí)現幾乎所有的常規熱處理所能涉及的熱處理工藝,但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規熱處理相比,真空熱處理的同時(shí),可實(shí)現無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脫脂除氣等作用,從而達到表面光亮凈化的果。
真空氣氛爐結構:
一 、電氣部分:電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結構,整個(gè)電氣元件安裝在爐體底部的側,結構緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側面板上,觀(guān)察直觀(guān),調節方便,溫控儀具有PID調節功能,可自動(dòng)跟蹤設定PID值,可任意設定測量分度密碼,同時(shí)具備補償功能,可使爐膛溫度與顯示值致。
二、爐體部分:爐膛采用莫來(lái)石聚輕磚砌筑,爐膛內上下用碳化硅棚板,爐內溫度是加熱元件在加熱過(guò)程中經(jīng)過(guò)碳化硅棚板傳導(暗火加熱),溫度更均勻。爐殼密封。為提高該氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門(mén)口設有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度。進(jìn)氣設爐膛底部,經(jīng)加熱腔預熱后分多處進(jìn)入爐內,排氣經(jīng)爐頂后部排出。爐內氣氛均勻,減小爐內溫差。也就是說(shuō),不論是電氣部分還是爐體部分,它們的結構性能都是互相力的,具有統性,也是實(shí)現箱式氣氛爐功能的基本!