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產(chǎn)品詳細頁(yè)簡(jiǎn)要描述:真空高溫爐用于真空與氣氛狀態(tài)下,陶瓷材料的合成與燒結;玻璃融化,金屬熔融,分體煅燒;無(wú)氧或者氣體保護狀態(tài)下,有機質(zhì)的熱解碳化;干燥,濃縮,熱處理。
- 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
- 更新時(shí)間:2024-07-07
- 訪(fǎng) 問(wèn) 量:1199
產(chǎn)品介紹
品牌 | 中奧菲達 | 升溫速度(達到最高溫) | 40/min |
---|---|---|---|
內部尺寸 | 300x200x200mm | 加熱方式 | 硅碳棒 |
最大功率 | 4000kW | 控溫精度 | 1℃ |
最高溫度 | 1400℃ | 價(jià)格區間 | 1萬(wàn)-2萬(wàn) |
儀器種類(lèi) | 箱式爐 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合 |
真空高溫爐通用功能
1、升溫速度快:20min內就可由室溫程序升溫至1000℃ ;
2、氣氛環(huán)境:真空環(huán)境,真空度可達-0.0099Mpa;
3、水冷卻系統:根據物料特性,溫度可達到1400℃,長(cháng)時(shí)間連續工作溫度100~1300℃;
4、單路氣氛:設置氣體進(jìn)出口及爐膛內氣體排出口;
5、進(jìn)口紅外測溫儀,可以不接觸測試物料溫度,避免微波場(chǎng)干擾;
6、門(mén)體多重連鎖結構,開(kāi)門(mén)斷電,保護操作人員,微波泄漏防護符合國標;
7、采用PLC自動(dòng)控制,溫度功率均智能可控,觸摸屏操作;
8、微波功率可調,連續可調。
真空高溫爐重要技術(shù)參數
一、型號:AFD1100-50;
二、設備尺寸
a、工作區尺寸:D500(mm) * W400(mm) * H400(mm);
三、機器結構
a、單門(mén)落地式,控制部分位于機臺下方;
b、爐門(mén)為從左至右打開(kāi)。
四、主要技術(shù)參數
a、溫度范圍:RT~1300℃;
b、溫度波動(dòng)度:±1.0℃;
c、溫度均勻度:≤±5.0℃;
d、溫度:1400 ℃;
e、額定溫度:1300℃;
f、加熱元件:硅碳棒
g、熱電偶型號:B型
h、四周表面溫度:≤ 溫升50℃;
i、升溫速率:≤ 20 ℃/ Min;
j、升溫速率:10 ℃/ Min;
K、降溫速率:≤ 15 ℃/ Min(爐膛溫度≥1000℃);
l、降溫速率:≤ 10 ℃/ Min(爐膛溫度≤1000℃);
m、加熱元件放在爐膛兩邊采用氣體對流和熱輻射加熱;
n、爐內真空度20Kpa,爐內正壓:max0.1Mpa;
o、爐膛內可通氫氣、氮氣,氧氣(少量)、氬氣等氣體。
五、內外材質(zhì)
a、爐膛材料:1560型日本進(jìn)口氧化鋁多晶體纖維(阿爾塞);
b、外層SPCC鋼板防銹處理+粉體烤漆處理;
六、密封裝置
a、爐門(mén)與爐體采用硅橡膠密封,配有循環(huán)水冷卻裝置;
b、爐體采用雙層爐殼,外城爐殼采用硅橡膠密封;
七、溫控系統;
a、溫度控制為PID微電腦自動(dòng)演算,PV/SV同時(shí)顯示按鍵設定;
b、溫度控制方式為P.I.D+S.S.R可控硅;
c、控制方式:40段程序控溫;
八、保溫及加熱方式
a、耐高溫纖維及空氣隔熱;
b、加熱方式為熱輻射及自然對流;
九、安全保護系統
a、保險絲;
b、過(guò)電流保護裝置、過(guò)溫保護裝置;
十、配件清單
a、流量計:1只;
b、高溫手套:一副;
c、氧化鋁墊磚:1 塊;
十、電源: 三相380V
功率:12KW
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