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產(chǎn)品詳細頁(yè)
密真空氣氛爐

簡(jiǎn)要描述:密真空氣氛爐廣泛用于高校、科研院所、工礦企業(yè)等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實(shí)驗和生產(chǎn)理想設備。

  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-07-06
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:897

產(chǎn)品介紹

品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)60/min
內部尺寸300-200-120mm加熱方式硅碳棒
最大功率4000kW控溫精度1℃
最高溫度1400℃價(jià)格區間1萬(wàn)-2萬(wàn)
儀器種類(lèi)真空爐產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),綜合

適用范圍
      本設備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業(yè)等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實(shí)驗和生產(chǎn)理想設備。

 
密真空氣氛爐真空氣氛系統:
      真空密封系統采用特種設計技術(shù),具有操作安全、方便、真空度高,密封性好,真空保持時(shí)間長(cháng),密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封,氣體經(jīng)過(guò)流量計后由針型閥開(kāi)關(guān)進(jìn)入爐管內,閥控配有進(jìn)氣閥,排氣、抽真空閥。減壓閥,安全閥,可通多種氣體、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體,可充入高壓氣體,氣氛壓力限值0.1MPa,采用*的密封技術(shù),可長(cháng)時(shí)間保壓,安全性能好,操作方便。


密真空氣氛爐主要技術(shù)參數:

項  目

單位

有效使用尺寸

有效使用尺寸

有效使用尺寸

有效使用尺寸

爐膛尺寸

   mm

200X150X150

300X200X200

500X300X200

500X500X500

 溫度類(lèi)別

1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃

 控制度

±1℃

溫度均勻度

≤1

≤1℃

≤1.5℃

≤2℃

加熱元件

 

根據溫度而定,采用電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。

電壓/頻率

 AC/Hz

220/50

380/50

380/50

380/50

設計功率

KW

4

10

15

25

溫控方式

 

微電腦智能調節技術(shù),具有PID調節、全自動(dòng)控制、自整定功能,多段程序編程,并可編制各種升溫、保溫、降溫程序,控溫度高;集成模塊可控硅控制、移相觸發(fā)。

 保護裝置

獨立超溫保護、超壓、超流、漏電、短路等保護,自動(dòng)化程度較高,

主要附件

高溫手套,坩堝鉗,發(fā)熱元件,門(mén)堵,合格證,說(shuō)明書(shū),質(zhì)保書(shū)。

 可選配

無(wú)紙記錄儀,有紙記錄儀,電腦液晶觸摸屏,人機畫(huà)面
通訊聯(lián)機功能,多臺設備臺電腦控制,打印與保存數據,實(shí)現操作簡(jiǎn)單方便,實(shí)時(shí)可查看與保存數據。

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