氮氣在真空高溫氣氛爐中的應用原理

真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結合的新型熱處理技術(shù)，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空，真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空爐是有嚴格的真空密封裝置，金屬零件進(jìn)行真空熱處理均在密閉的真空爐內進(jìn)行，因此，獲得和維持爐子原定的漏氣率，真空爐的工作真空度，對確保零件真空熱處理的質(zhì)量有著(zhù)非常重要的意義。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的，真空熱處理可以實(shí)現幾乎所有的常規熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規熱處理相比，真空熱處理的同時(shí)，可實(shí)現無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。

    氮氣在真空氣氛爐中的應用原理主要包含兩個(gè)方面，都是利用氮氣的化學(xué)性質(zhì)穩定、不活潑性質(zhì)，是在加熱時(shí)，特別是在1000℃以上時(shí)，為了防止Cr等金屬元素在高的真空度下的揮發(fā)，在抽真空到1~5Pa后回充氮氣，以調整爐內的真空度，防止金屬元素的揮發(fā)；二是在淬火時(shí)，為了提高冷卻能力（般來(lái)說(shuō)，真空度越高，無(wú)論是空冷還是油冷，則冷卻能力越差），根據不同的淬火冷卻方法、不同的爐型，而采用回充氮氣，從而選擇在不同的真空度下淬火，以得到不同的淬火烈度。補充：真空爐用氮氣濃度應≥99.999%